Målværdien for relativ fugtighed i et halvlederrenrum (FAB).

Målværdien for relativ luftfugtighed i et halvlederrenrum (FAB) er ca. 30 til 50 %, hvilket tillader en snæver fejlmargin på ±1 %, såsom i litografizonen – eller endnu mindre i fjern ultraviolet behandling (DUV) zone – mens den andre steder kan afspændes til ±5 %.
Fordi relativ luftfugtighed har en række faktorer, der kan reducere den samlede ydeevne af rene rum, herunder:
1. Bakteriel vækst;
2. Rumtemperatur komfortområde for personalet;
3. Elektrostatisk ladning vises;
4. Metalkorrosion;
5. Vanddampkondensering;
6. Nedbrydning af litografi;
7. Vandoptagelse.

Bakterier og andre biologiske kontaminanter (skimmel, vira, svampe, mider) kan trives i miljøer med en relativ luftfugtighed på mere end 60 %.Nogle bakteriesamfund kan vokse ved en relativ luftfugtighed på mere end 30 %.Virksomheden mener, at fugtigheden bør kontrolleres i intervallet fra 40% til 60%, hvilket kan minimere virkningen af ​​bakterier og luftvejsinfektioner.

Relativ luftfugtighed i området 40% til 60% er også et moderat interval for menneskers komfort.For meget luftfugtighed kan få folk til at føle sig indelukkede, mens luftfugtighed under 30% kan få folk til at føle sig tør, sprukken hud, åndedrætsbesvær og følelsesmæssig ulykke.

Den høje luftfugtighed reducerer faktisk ophobningen af ​​elektrostatiske ladninger på renrummets overflade – et ønsket resultat.Lav luftfugtighed er ideel til ladningsakkumulering og en potentielt skadelig kilde til elektrostatisk udladning.Når den relative luftfugtighed overstiger 50 %, begynder de elektrostatiske ladninger at spredes hurtigt, men når den relative luftfugtighed er mindre end 30 %, kan de vare ved i lang tid på en isolator eller en ujordet overflade.

Relativ luftfugtighed mellem 35% og 40% kan bruges som et tilfredsstillende kompromis, og halvlederrene rum bruger generelt yderligere kontroller for at begrænse akkumuleringen af ​​elektrostatiske ladninger.

Hastigheden af ​​mange kemiske reaktioner, herunder korrosionsprocesser, vil stige med stigningen i den relative fugtighed.Alle overflader, der udsættes for luften omkring renrummet, er hurtige.